아센디아, 한국핵융합에너지연구원과 ‘고정밀 RF 파워 측정 기술’ 이전 계약 체결

--플라즈마 공정 장비용 고주파(RF) 부품 전문기업 아센디아(ASENDIA)가 정부출연연구기관인 한국핵융합에너지연구원(KFE, 원장 오영국)과의 기술이전을 통해 차세대 초미세 반도체·디스플레이 공정 부품 시장 공략에 속도를 낸다.
박문수 아센디아 대표이사(왼쪽)와 오영국 한국핵융합에너지연구원 원장이 고정밀 RF 파워 측정 기술 실시 계약 서명 후 기념촬영을 하고 있다 아센디아가 한국핵융합에너지연구원으로부터 고정밀 RF 파워 측정기술 ‘DiCoVI’를 이전받아 차세대 RF 매처 개발에 나선다 아센디아는 지난 7월 1일 대전 KFE 본원에서 반도체·디스플레이 산업용 플라즈마 장비의 고정밀 RF 파워 측정 기술인 ‘DiCoVI(Directional Coupled VI) 센서’에 대한 기술실시계약 서명식을 가졌다고 밝혔다.
이번에 아센디아가 이전받은 DiCoVI 센서 기술은 플라즈마 장비에 공급되는 고주파 전력 중 실제 공정 체임버 내부로 전달되는 전력을 정밀하게 측정하는 혁신 기술이다.
현재 반도체 양산 현장에서 사용하는 기존 VI 센서는 전압과 전류만을 기반으로 전력 상태를 파악하기 때문에 복잡하고 변동성이 큰 플라즈마 부하 조건에서 실제 전달되는 전력을 정확히 측정하는 데 한계가 있었다.
반면 KFE가 개발한 DiCoVI 센서는 기존 방식에 방향성 결합(Directional Coupling) 기술을 더해 장비에서 플라즈마로 전달되는 전력과 반사되는 전력의 양을 정량적으로 분리 측정함으로써 데이터의 신뢰성과 정확도를 획기적으로 끌어올렸다.
아센디아는 이번에 확보한 DiCoVI 센서 기술을 자사의 주력 제품군인 RF 매처(Matcher)에 전격 접목할 계획이다.
이를 통해 초미세 플라즈마 공정에서 요구되는 고정확도·고정밀도의 RF 파워 센싱 신호를 제공하는 ‘차세대 임피던스 매칭 시스템(RF Matcher)’을 개발하고 조기 사업화에 나선다는 구상이다.
나아가 장비의 이상 조기 감지 및 AI 기반 공정 제어 솔루션과의 연계도 추진한다.
아센디아 박문수 대표이사는 “KFE의 세계적인 플라즈마 원천기술을 이전받아 공동개발하게 돼 기쁘다”며 “이번 기술 이전을 시작으로 KFE와의 후속 공동연구 및 기술자문을 긴밀히 이어가 고신뢰성 RF 파워 센싱 기술이 적용된 차세대 제품의 양산 체계를 신속히 구축하고 글로벌 시장 경쟁력을 강화하겠다”고 포부를 밝혔다.
아센디아 소개 아센디아(ASENDIA)는 반도체 플라즈마 공정에 사용되는 RF 기반 핵심 부품을 개발 및 제조하는 전문기업이다.
디알소프트 홈페이지제작 RF Matcher 및 RF Generator 분야의 독자 기술을 바탕으로 고주파 전력 제어에 최적화된 솔루션을 제공하며, 글로벌 반도체 장비 고객사와의 협업을 통해 시장 경쟁력을 확대해오고 있다.
기술 신뢰성과 고객 맞춤형 대응력을 인정받아 글로벌 반도체 장비 주요 고객사들과 긴밀한 파트너십을 유지하고 있으며, 정밀한 품질관리와 빠른 기술지원 체계를 기반으로 안정적 성장을 이어가고 있을 뿐만 아니라 RF 제어 시스템의 핵심 부품인 RF Matcher, RF Generator를 자체 기술로 개발·양산하며 정확한 임피던스 매칭과 초고속 제어 기술을 통해 플라즈마 공정의 효율성과 정밀도를 극대화한다.
웹사이트: http://www.asendia-global.com 연락처 아센디아 관리부 위보영 차장 이메일 보내기  올인원 PR 플랫폼 기자 발굴부터 성과 측정까지 PR 업무 시간을 절반으로 무료 체험하기 아센디아 보도자료 RSS 구독하기 아센디아 ‘SEMICON Korea 2026’서 통합 플랫폼 ‘UnityX’ 첫 공개… 일본 Tokyo KEIKI와 기술 협력 확대 국내 반도체 RF 부품 전문기업 아센디아(ASENDIA)가 서울 코엑스에서 열린 ‘SEMICON Korea 2026’에 참가해 차세대 RF 기술과 ...
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